Equipo de recubrimiento PVD de baja temperatura
Deposición de vapor de arco a baja temperatura (LTAVD), sistema de recubrimiento PVD de temperatura de deposición ultra baja
- Introducción del producto
Máquina de recubrimiento por pulverización catódica de magnetrón iónico multi-arco que tiene varias ventajas tanto de
Recubrimiento de iones y pulverización con magnetrón.
Tecnología:
Media frecuencia + ARC (filtrado)
Objetivo plano + fuente de iones (opcional)
caracteristicas:
El diseño del horno de gran tamaño garantiza un gran rendimiento y una alta eficiencia, y ayuda a ahorrar costos.
Amplia gama de deposición de material.
Sustrato sensible a la temperatura.
Con una buena repetibilidad y capacidad de control del espesor de la película, la capa de recubrimiento es suave, densa y brillante.
Aplicaciones:
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