Fuente de iones de capa anódica
Haz de iones estable, limpieza profunda
Mejora enormemente la adhesión de la película.
Adecuado para proceso PVD completo
Refrigeración-por agua para-tiempo de funcionamiento prolongado
Alta confiabilidad y baja tasa de fallas
- Introducción del producto
IKS PVD Technology (Shenyang) Co., Ltd. es uno de los fabricantes y proveedores más confiables de fuentes de iones de capa anódica en China, que se caracteriza por productos de calidad y bajo precio. Si va a vender al por mayor una fuente de iones de capa de ánodo barata fabricada en China, le invitamos a obtener una cotización de nuestra fábrica.
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Artículo |
Valor |
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Nombre del producto |
Fuente de iones de capa anódica Cátodo de limpieza de plasma Cátodo de grabado de plasma |
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Voltaje de trabajo |
0 – 2000 V |
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Corriente de trabajo |
0.5 – 2 A |
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Energía iónica |
50 – 500 eV |
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Corriente del haz |
50 – 200 mA |
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Gas de trabajo |
Ar, C₂H₂ |
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Método de enfriamiento |
Refrigeración por agua |
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Tamaño de brida |
Personalizable |
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Función principal |
Limpieza, bombardeo iónico, mejora de la adherencia. |
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Proceso aplicable |
Limpieza PVD, deposición DLC |
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Ventajas del producto |
Haz de iones estable, limpieza profunda Mejora enormemente la adhesión de la película. Adecuado para proceso PVD completo >Refrigeración-por agua para-tiempo de funcionamiento prolongado Alta confiabilidad y baja tasa de fallas |
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Personalizable |
Sí |
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