¿Cuáles son las ventajas de la tecnología de recubrimiento PVD (recubrimiento de iones al vacío)?

May 23, 2022|

¿Cuáles son las ventajas de la tecnología de recubrimiento PVD (recubrimiento de iones al vacío)?

1 duradero: una capa de película dura, una capa de película y la fuerza de unión de la superficie de la pieza de trabajo es fuerte, más duradera y resistente al desgaste;
2. Buena ductilidad: la película es de buena ductilidad, el rendimiento de difracción de iones es bueno, la resistencia a la flexión, se puede enchapar con una forma compleja de la pieza de trabajo;
3. Alta productividad -- tasa de deposición rápida, rendimiento estable y alta eficiencia de producción;
4. Alta seguridad: la certificación RoHS y FDA se puede aplicar a electrodomésticos para alimentos e implantarse en el cuerpo humano;
5. Amplia variedad: amplia variedad de capas de recubrimiento, puede preparar una variedad de películas de un solo metal (como titanio, aluminio, cobre, circonio, cromo, etc.); Convencional: película de nitruro (TiN, ZrN, CrN, TiAlN) y película de carburo (TiC, TiCN) y película de óxido (como TiO);
6. Protección del medio ambiente y salud -- El proceso de enchapado de iones al vacío no tiene aguas residuales, residuos de desecho ni emisiones de gases de desecho, lo que evita la contaminación del medio ambiente con cromo hexavalente, níquel y cadmio del enchapado de agua industrial tradicional y la amenaza para la salud de los trabajadores. .

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