Recubrimiento de iones de vacío

Recubrimiento de iones de vacío
El recubrimiento de iones al vacío es una nueva tecnología de recubrimiento desarrollada sobre la base del recubrimiento por evaporación al vacío y el recubrimiento por pulverización catódica. Al REALIZAR todo el proceso de deposición de vapor en plasma, la tecnología de recubrimiento de iones al vacío mejora en gran medida la energía de las partículas de la capa de película, y se puede obtener la capa de película con un mejor rendimiento, lo que amplía el campo de aplicación de la "película".
Ventajas: fuerte adherencia, no se cae fácilmente; Se mejoró la cubribilidad de la película. La calidad del recubrimiento es alta; Velocidad de formación de película rápida; Alta densidad y tamaño de grano pequeño.
Desventajas: El sustrato debe ser un material conductor.
Debido al excelente rendimiento del recubrimiento, el recubrimiento de iones al vacío tiene una gama más amplia de aplicaciones, actualmente se utiliza principalmente en piezas de maquinaria, aviones, barcos, automóviles, tubos de escape, motores de aviones, piezas giratorias de alta velocidad, herramientas, troqueles súper duros, etc.

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