El progreso de la tecnología de deposición de vapor
Dec 22, 2022| El progreso de la tecnología de deposición de vapor se puede resumir de la siguiente manera:
(1) Desarrollo de equipos. Por ejemplo, equipos de evaporación continua de haz de electrones grandes, diversas formas de equipos de pulverización catódica magnetrónica, nuevos equipos de recubrimiento iónico con fuente de arco y HCD y equipo de recubrimiento iónico compuesto multiarco, varios equipos IBAD y equipos de implantación de iones de inmersión de plasma (PIⅢI), etc.
(2) Progreso del proceso. Se manifiesta principalmente en el aumento de los tipos de película y la mejora de las propiedades de la película. Por ejemplo, se han preparado varias películas de barrera térmica de alto rendimiento resistentes al desgaste, resistentes a la corrosión, resistentes a la corrosión a altas temperaturas, películas de nitruro de boro cúbico y tipo diamante, y una variedad de películas compuestas de cerámica, gradiente y multicapa. .
(3) Composición de los métodos. La tecnología de deposición de vapor más avanzada es la combinación de una sola deposición física de vapor y una deposición química de vapor. No solo utilizan una variedad de nuevas fuentes de calor, sino que también aprovechan varias reacciones químicas, efectos electromagnéticos de alta frecuencia (pulsos, radiofrecuencia, microondas, etc.) y efectos de plasma para activar las partículas depositadas. Por ejemplo, la evaporación reactiva, la pulverización catódica reactiva, la pulverización catódica de haz de iones, varios depósitos de vapor químico excitado por plasma, etc., hay más métodos compuestos en equipos IBAD y PⅢ. La introducción del rayo láser no solo permite el recubrimiento con vapor, sino también el compuesto de diferentes maneras.
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