Se presentan en detalle las ventajas y desventajas de la tecnología de recubrimiento por evaporación y recubrimiento por pulverización catódica

Se presentan en detalle las ventajas y desventajas de la tecnología de recubrimiento por evaporación y recubrimiento por pulverización catódica.
La tecnología de recubrimiento al vacío conocida como PVD, en condiciones de vacío, es el uso de métodos físicos para vaporizar la superficie de la fuente del material en átomos, moléculas o iones, y depositar una película con una función especial en la superficie del sustrato. La tecnología de recubrimiento de equipos de recubrimiento al vacío se divide principalmente en tres categorías: evaporación, pulverización catódica y revestimiento iónico. La tecnología de recubrimiento por evaporación también se divide en tres tipos: evaporación por resistencia, evaporación por haz de electrones y evaporación por calentamiento por inducción. Tres tecnologías de recubrimiento por evaporación, cada una con sus características,

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