Tomando el iPhone14 como ejemplo, hablemos del vacío en el proceso de desarrollo y fabricación del teléfono

Tomando el iPhone14 como ejemplo, hablemos del "vacío" en el proceso de desarrollo y fabricación del teléfono.

Antes de hablar sobre la serie iPhone 14, hablemos de los dos métodos principales de recubrimiento por PVD, el recubrimiento por pulverización al vacío y el recubrimiento por evaporación al vacío, que se tratan principalmente en este documento.

● El material objetivo del recubrimiento por pulverización catódica al vacío tiene las características de alta pureza, alta densidad, múltiples componentes, grano uniforme, etc. Generalmente se compone de un objetivo en blanco y un backplane. El objetivo en blanco pertenece a la parte central del material objetivo de pulverización catódica, que es el material objetivo del bombardeo con haz de iones de alta velocidad. Después de que los iones impactan el tocho objetivo, los átomos de la superficie se pulverizan y se depositan en el sustrato para formar una película de electrones. Debido a la baja resistencia del metal de alta pureza, el material objetivo de la pulverización debe completar el proceso de pulverización en el entorno de la máquina de alto voltaje y alto vacío.

● El recubrimiento por evaporación al vacío se refiere a una tecnología para obtener una película delgada en condiciones de vacío al evaporar un material calentando la fuente de evaporación para que se deposite en la superficie del material del sustrato. La sustancia que se evapora se llama material evaporado. Un sistema de recubrimiento por evaporación al vacío generalmente se compone de tres partes: cámara de vacío, fuente de evaporación o dispositivo de calentamiento por evaporación, ubicación del sustrato y dispositivo de calentamiento del sustrato. Para evaporar el material que se va a depositar en el vacío, es necesario proporcionar calor de evaporación para llevar el material vaporizado a una temperatura lo suficientemente alta como para producir la presión de vapor deseada.

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