Frecuencia de funcionamiento PECVD de la fuente de alimentación de RF
Jul 07, 2023| Rf PECVD generalmente adopta una fuente de alimentación de RF de banda de frecuencia de 50 kHz ~ 13,56 MHz, que tiene alta frecuencia, fuerte efecto de bombardeo de iones en plasma, película depositada más densa, pero el daño al sustrato también es relativamente grande. La uniformidad de la película con deposición de alta frecuencia es significativamente mejor que la de baja frecuencia, porque cuando la frecuencia de la fuente de alimentación de RF es baja, el campo eléctrico cerca del borde de la placa es débil y la velocidad de deposición será menor. que el área central de la placa, y la diferencia entre el borde y el área central será menor cuando la frecuencia sea alta.
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