Fuente de alimentación de pulverización catódica con magnetrón

Fuente de alimentación por pulverización catódica con magnetrón

Desde el punto de vista de la forma de onda de salida, con el desarrollo de la tecnología de pulverización catódica con magnetrón en sí, se han experimentado varias formas de CC, pulso unipolar, pulso bipolar simétrico (fuente de alimentación de pulverización catódica con magnetrón de frecuencia media) y pulso bipolar (potencia de pulverización catódica con magnetrón de frecuencia media asimétrica). suministrar). En la actualidad, la nueva fuente de alimentación de pulverización catódica con magnetrón está fabricada con tecnología de fuente de alimentación conmutada por inversor de alta frecuencia, y la fuente de alimentación de pulverización catódica con magnetrón de frecuencia media se ha convertido en la fuente de alimentación preferida para los nuevos equipos de pulverización catódica con magnetrón. Para controlar con precisión el espesor de la capa de película, la fuente de alimentación de pulverización catódica con magnetrón debe funcionar de manera estable y tener buenas características constantes. En la actualidad, el uso principal del modo de corriente constante, también existe el modo de potencia constante, pero rara vez se utiliza el modo de voltaje constante. Además, una ventaja significativa de la tecnología de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón es que la capa de película es densa y el acabado es bueno. Para lograr esta ventaja, es necesario limitar estrictamente el número de veces de incitación y la energía de cada incitación en la superficie del objetivo durante el proceso de pulverización catódica del magnetrón, y minimizar el número de partículas objetivo macroscópicas causadas por el momento de incitación, lo que reducirá la Densidad y acabado de la capa de película, y causan gravemente que la película se caiga.

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