Pulverización con magnetrón

La pulverización catódica con magnetrón es una técnica de deposición de película delgada ampliamente utilizada, en la que se bombardea un objetivo con iones de alta energía en un entorno de gas a baja presión para producir una película delgada sobre un sustrato. La tecnología se usa ampliamente en varias industrias, incluidas la microelectrónica, la óptica, la energía y la industria aeroespacial para fabricar materiales y dispositivos avanzados.

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