Tasas de deposición de película en CVD

Las tasas de deposición de película en CVD suelen ser bajas, y van desde unos pocos nanómetros por segundo hasta unos pocos micrómetros por hora, según el tipo de precursor, la temperatura del sustrato y la presión. La tasa de deposición se puede controlar ajustando la tasa de flujo del precursor, la temperatura del sustrato y la presión en la cámara.

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