Dielectric Layer Barrier Discharge Enhanced Chemical Vapor Deposition (DBD-PECVD)

DBD-PECVD es a no-equilibrio gas descarga con an aislante medio insertado en el descarga espacio (también conocido como dieléctrico barrera corona descarga o silent descarga). Este descarga método tiene las características de espacio grande uniforme descarga de resplandor descarga y alta presión operación de corona descarga, y es gradualmente ser usado en la preparación de silicio fino películas.

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