Deposición física de vapor (PVD)
Apr 27, 2024| Deposición física de vapor (PVD)
Tecnología de deposición física de vapor (PVD). En condiciones de vacío, la superficie de la fuente material (sólida o líquida) se vaporiza primero en átomos y moléculas gaseosos o se ioniza parcialmente en iones, y a través del proceso de gas (o plasma) a baja presión, se forma una película con una función especial. depositado sobre la superficie del sustrato.
El proceso de deposición de PVD se puede dividir aproximadamente en tres partes: evaporación del revestimiento, migración del revestimiento y deposición del revestimiento.
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