PACVD

El proceso es un proceso de recubrimiento limpio, confiable y de rendimiento múltiple, la deposición química de vapor reforzada con iones PACVD se realiza en un ambiente de alto vacío, la temperatura es inferior a 200 grados C, la deposición de un recubrimiento de carburo de diamante amorfo extremadamente suave y de buena adhesión. En comparación con el proceso PVD, el proceso PACVD utiliza una fuente de alimentación de recubrimiento profundo, no se requiere un objetivo catódico y la pieza de trabajo no necesita girar en el horno, lo cual es un proceso de recubrimiento limpio, confiable y de rendimiento múltiple. PACVD también se llama PECVD.

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