¿Qué es la deposición química de vapor (CVD)?
Jul 21, 2020| ¿Qué es la deposición química de vapor (CVD)? ¿Cuáles son las principales fortalezas y debilidades?
La deposición química de vapor es un proceso en el que uno o más gases reaccionan sobre un sustrato sólido calentado y se recubre una película sólida.
Ventajas: (1) El requisito de grado de vacío no es alto, incluso no puede necesitar vacío, como la pulverización térmica (2) la velocidad de deposición es rápida, la CVD atmosférica puede alcanzar 1 m / min (3) en comparación con PVD. (4) La diversificación de los componentes del revestimiento, como metal, no metal, semiconductores, material fotoeléctrico, película de diamante (5) puede estar en forma compleja del revestimiento del sustrato e incluso en cerámica porosa (6) buena uniformidad de espesor, baja la presión CVD puede incluso colocar docenas de chips al mismo tiempo: (1) El mecanismo de reacción química y termodinámica no es fácil de entender o no se entiende muy bien (2) debe llevarse a cabo a alta temperatura, algunos sustratos no pueden soportar, y incluso con el efecto de película de recubrimiento (3) el gas de reacción puede ser corrosivo, tóxico o explosivo, el tratamiento debe ser cuidadoso (4) los productos de reacción pueden permanecer en el recubrimiento y convertirse en impurezas (5) la cubierta del sustrato es difícil.
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