El principio básico del recubrimiento por pulverización catódica.

  El principio básico del recubrimiento por pulverización catódica: en condiciones de vacío de gas argón (Ar), descarga luminosa de gas argón, luego átomos de argón (Ar) ionizados en ion argón (Ar), ion argón en la acción de la fuerza del campo eléctrico, bombardeo acelerado a el material objetivo del cátodo hecho por el material de recubrimiento, el material objetivo se pulverizará y se depositará en la superficie de la pieza de trabajo. Los iones incidentes en la película de pulverización catódica generalmente se obtienen por descarga luminosa en el rango de 10-2pa ~ 10Pa, por lo que las partículas de pulverización catódica son fáciles de colisionar con las moléculas de gas en la cámara de vacío cuando vuelan hacia la matriz, haciendo que la dirección del movimiento sea aleatoria y la película depositada es fácil de ser uniforme.

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