Recubrimiento por pulverización catódica de magnetrón reactivo

Recubrimiento por pulverización catódica de magnetrón reactivo
La pulverización catódica reactiva es un proceso en el que se deposita una fina película de compuestos mediante la introducción de un gas reactivo (oxígeno o nitrógeno). Por lo general, se utiliza para pulverizar óxidos, nitruros, carburos y mezclas de los tres. En el proceso de pulverización catódica reactiva, el gas de reacción reacciona con el objetivo de pulverización catódica y luego se deposita sobre el sustrato. El objetivo de la pulverización catódica reactiva es producir películas delgadas que sean estequiométricas y estructuralmente controladas. La composición de la película se puede controlar controlando las cantidades relativas de gas inerte y gas reactivo.

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