Deposición química de vapor DLC
May 28, 2024| Deposición química de vapor DLC (CVD) y deposición química de vapor mejorada con plasma (PECVD) La deposición química de vapor es un método de crecimiento de reacción de fase química. Consiste en pasar varios compuestos o gases de reacción elementales a la cámara de reacción, descomponerlos, desorcionarlos y combinarlos en la interfaz gas-sólido para producir una película sólida uniforme. Los principales métodos de deposición química de vapor son la presión atmosférica, la deposición química de vapor a alta y baja temperatura a baja presión, la deposición química de vapor metal-orgánico (MOCVD), la deposición química de vapor asistida por plasma (PVCD) y la deposición química de vapor por láser (LCVD). ). El principal es la deposición química de vapor asistida por plasma.
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