Análisis comparativo de CVD y PVD para equipos de deposición de películas
Nov 02, 2022| Análisis comparativo de CVD y PVD para equipos de deposición de películas
La tecnología de deposición de película delgada es un proceso crucial necesario para el desarrollo de las industrias fotovoltaica y de semiconductores. La tecnología de deposición de película delgada se refiere a la tecnología de depósito de átomos de gas o moléculas obtenidas por varios métodos en la superficie del material del sustrato al vacío para obtener un recubrimiento de capa separada. No solo es adecuado para la preparación de películas mecánicas superduras, resistentes a la corrosión, al calor y a la oxidación, sino que también es adecuado para la preparación de grabaciones magnéticas, almacenamiento de información, fotosensibles, térmicamente sensibles, superconductores, conversión fotoeléctrica y otras funciones de la película; Además, también se puede utilizar para preparar películas de revestimiento decorativas. En los últimos 20 años, la tecnología de deposición de película delgada se ha desarrollado rápidamente y se ha utilizado ampliamente en maquinaria, electrónica, decoración y otros campos. La deposición de películas delgadas se puede dividir en procesos físicos, químicos y epitaxiales de acuerdo con diferentes mecanismos de formación de películas.
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