Características del recubrimiento de evaporación por haz de electrones.
Apr 26, 2020| Características del recubrimiento de evaporación por haz de electrones.
La máquina de recubrimiento por evaporación con haz de electrones es un tipo de equipo de fabricación de películas comúnmente utilizado en la industria. Debido a las características de la máquina de recubrimiento por evaporación, desempeña un gran papel en la producción de películas. La generación de películas se genera principalmente por el calentamiento del haz de electrones en la máquina de recubrimiento. 1, las ventajas del calentamiento por haz de electrones que recubre el método de calentamiento por haz de electrones en la máquina de recubrimiento en comparación con el método tradicional de calentamiento por resistencia . El calentamiento por haz de electrones produce una mayor densidad de flujo, que es favorable para la evaporación de materiales con altos puntos de fusión, y también puede mejorar la velocidad de evaporación en cierta medida. (2) la máquina de recubrimiento por evaporación en el trabajo de la necesidad de vaporizar las materias primas en el crisol de cobre, para garantizar que el material evite la contaminación, puede producir una mayor pureza de la película. La evaporación del haz electrónico de la energía cinética de las partículas es relativamente grande, por lo que será propicio para la precisión de la película y la fuerza de unión. 2, el revestimiento de evaporación por calentamiento con haz de electrones presenta desventajas en la estructura general de la máquina de revestimiento por evaporación por haz de electrones que es más compleja, el precio en comparación con otros equipos de revestimiento es relativamente alto. Cuando la máquina de recubrimiento está funcionando, si la densidad del vapor cerca de la fuente de evaporación es relativamente alta, hará cierta interacción entre el haz de electrones y las partículas de vapor, tendrá un impacto en el flujo de electrones, hará que el flujo de electrones se pierda o compensar la órbita. Al mismo tiempo, puede provocar la excitación e ionización del vapor y el gas residual, lo que afecta la calidad de toda la película.
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