Método de recubrimiento PVD con el color ajustable de la película objetivo

Método de recubrimiento PVD con el color ajustable de la película de destino

1. Chapar la película metálica, pasar el producto a chapar en la cámara de recubrimiento equipada con el material objetivo de metal, abrir el vacío de la bomba y el dispositivo de calefacción para calentar la base, de modo que el vacío del fondo puede alcanzar 1 10-3Pa y 80-150Tras la temperatura del proceso, gas argón de 10-1000sccm se inyecta en la cámara, se inicia la potencia de sputtering , la potencia de sputtering se establece en 1-15kW, el tiempo de recubrimiento se establece en 10-300s, capa de película metálica de 1-100nm de espesor se obtiene, la capa de película de metal es cobre (Cu), plata (Ag), aluminio (Al), cromo (Cr) y otras películas de metal, o níquel-cobre (NiCu). Película de aleación NiCr (NiCr);2. Chapado de la película de índice de refracción baja. La película metálica terminada se transfiere a la cámara de recubrimiento del material objetivo que puede formar la película de bajo índice refractivo y se calienta hasta 80-150Es la temperatura del proceso de, el gas de proceso se pasa a la cámara, la potencia de sputtering se establece en 1-15kW, el tiempo de recubrimiento se establece en 1-300s, la capa de película de índice de baja refracción con el espesor de 1-100nm se obtiene , la capa de película de índice de baja refracción es como la capa de película de nitruro de silicio óxido de silicio; (3) Chapar la película de alto índice refractiva. Después del chapado de la película de bajo índice refractivo, el producto se transfiere a la cámara de recubrimiento del material objetivo que puede formar la película de alto índice refractivo, y se calienta hasta 80-150La capa de película de alto índice refractivo con un espesor de 1-100nm se obtiene. La capa de película de alto índice refracción es óxido de titanio óxido de titanio nitruro zirconio nitruro zirconium nitruro nitruro óxido de zinc óxido de zinc óxido de alúmina óxido de hierro óxido óxido de hierro óxido cromo óxidoEl gas de proceso de esta película de alta y baja refracción es al menos uno de Ar N2 O2, en el que el caudal del gas Ar es de 10-1000SCCM, el caudal del gas N2 es de 10-1000SCCM , y el caudal del gas O2 es de 10-1000SCCM.4. Repita el paso 2 y el paso 3 varias veces para obtener capas de película de diferentes colores. Repita el paso 2 y el paso 3 1-100 veces

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