Influencia de los parámetros del proceso de pulverización catódica con magnetrón: distancia objetivo-base
Sep 04, 2024| Influencia de los parámetros del proceso de pulverización catódica con magnetrón: distancia objetivo-base
La composición química y la estructura del recubrimiento cuaternario (Cr,Ti,Al)N se pueden ajustar cambiando la distancia entre el objetivo y el sustrato, y las diversas propiedades del recubrimiento pueden verse afectadas. Jin Jie y cols. utilizó tecnología de pulverización catódica con magnetrón sin equilibrio de campo cerrado para depositar recubrimientos de (Cr,Ti,Al)N en una matriz de acero H13, y estudió y analizó el espesor, la composición y las propiedades de los recubrimientos cuaternarios de (Cr,Ti,Al)N bajo diferentes objetivos. distancias de base (80~180 mm) [61]. Los resultados experimentales muestran que con el aumento de la distancia objetivo-base, la intensidad del campo magnético disminuirá rápidamente y la densidad de la corriente iónica también disminuirá, lo que conducirá a una disminución de la tasa de deposición y del espesor del recubrimiento. Además, con el aumento de la distancia objetivo-base, el contenido de elementos metálicos en los recubrimientos de (Cr,Ti,Al)N disminuye continuamente, mientras que el contenido de elementos nitrogenados aumenta continuamente. La microdureza de la superficie del recubrimiento y la fuerza de unión de la película a la base aumentaron primero y luego disminuyeron. Sin embargo, el volumen de desgaste y la tasa de desgaste del recubrimiento disminuyeron primero y luego aumentaron, es decir, la resistencia al desgaste del recubrimiento aumentó primero y luego disminuyó. Esto se debe a que la dureza y la fuerza de unión del recubrimiento tienen un impacto importante en sus propiedades de fricción y desgaste. Cuanto menor sea la fuerza de unión de la película a la base, más probable será que el recubrimiento se agriete y se descame durante la fricción, reduciendo así la resistencia al desgaste del recubrimiento.
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