PVD Método de limpieza de bombardeo previo a la limpieza
Apr 04, 2025| PVD Método de limpieza de bombardeo previo a la limpieza
método de limpieza:Método de limpieza con bombardeo de iones
Propósito de limpieza:Retire la suciedad de la superficie y el adsorbato
Limpieza de medios:Usar bombardeo iónico
Limpiar a través del proceso:Sustrato en 10 ~ 1000 pa aplicando 0.5-1 kV de la cámara de vacío de alto voltaje para producir una baja cantidad de descarga de brillo después de que la aceleración se dispara desde el niño, la superficie del sustrato
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