Objetivo multiarco

Objetivos de arco múltiple de alta calidad

IKS proporciona objetivos de múltiples arcos de alta calidad para una amplia gama de aplicaciones para óxidos complejos ferromagnéticos y películas semiconductoras. Nuestros objetivos se ofrecen en varios niveles de pureza para satisfacer sus requisitos específicos con la pureza mínima de 99.5% hasta 99.99% para elementos puros y aleaciones.

Adoptando tecnologías avanzadas tales como prensado isostático en caliente (HIP), sinterización al vacío y proceso de fusión en vacío, nuestros blancos de arco múltiple se caracterizan por su alta pureza, alta densidad, composición homogénea, tamaño de grano uniforme y alta utilización. Controlamos cada paso (desde las materias primas hasta los productos terminados) para asegurarnos de que solo se envíen los objetivos de alta calidad desde nuestras fábricas.

IKS fabrica todas las formas y tamaños de objetivos multi-arco de alta calidad. Háganos saber el material y las dimensiones que necesita y cumpliremos con su requisito especial.

Tabla de productos principales:

Material	Símbolo	Relación atómica	Pureza	Densidad relativa	Dimensiones de Stock	Tecnología	Caracteristicas
Cromo	Cr	_____	99.5% ~ 99.95%	> 99%	Dia100xH40mm Dia95x45mm	Hot Isostático Presionando (HIP)	Buena resistencia a la oxidación
Tungsteno	W	_____	99.9%	> 99%	Dia100xH40mm Dia95x45mm	Hot Isostático Presionando (HIP)	Alta dureza
Titanio	Ti	_____	99.9% ~ 99.99%	> 99%	Dia100xH40mm Dia95x45mm	Vacío de fusión	Buen desgasteResistencia
Níquel	Ni	_____	99.9% ~ 99.99%	> 99%	Dia100xH40mm Dia95x45mm	Vacío de fusión	Gran resistencia a la corrosión
Molibdeno	Mes	_____	99.9% ~ 99.99%	> 99%	Dia100xH40mm Dia95x45mm	Vacío de fusión	Gran resistencia a la corrosión
Silicio	Si	_____	99.99%	> 99%	Dia100xH40mm Dia95x45mm	Sinterización al vacío	Alta dureza
Plata	Ag	_____	99.9% ~ 99.99%	> 99%	Dia100xH40mm Dia95x45mm	Vacío de fusión	Buena conductividad eléctrica y térmica
Tántalo	Ejército de reserva	_____	99.9% ~ 99.99%	> 99%	Dia100xH40mm Dia95x45mm	Vacío de fusión	Alta ductilidad
Cobre	Cu	_____	99.9% ~ 99.99%	> 99%	Dia100xH40mm Dia95x45mm	Vacío de fusión	Buena Ductilidad, Conductividad Térmica y Resistencia a la Corrosión
Grafito		_____	99.9% ~ 99.99%	> 99%	Dia100xH40mm Dia95x45mm	Sinterización al vacío	Alta dureza
Aluminio	Alabama	_____	99.9% ~ 99.99%	> 99%	Dia100xH40mm Dia95x45mm	Vacío de fusión	Buena Ductilidad, Conductividad Térmica y Resistencia a la Corrosión
Silicio-aluminio	SiAl	25/75 30/70 40/60 50/50	99.9% ~ 99.99%	> 99%	Dia100xH40mm Dia95x45mm	Prensado isostático en caliente (HIP)	Alta ductilidad y buena resistencia al desgaste
Titanio-Aluminio	TiAl	30/70 33/67 40/60 45/55 50/50 60/40 70/30 75/25 80/20	> 99.7% (2N7)	> 99%	Dia100x40 / 95x32mm Dia63x40 / 65x32mm	Prensado isostático en caliente (HIP)	Alta resistencia mecánica y buena resistencia a la corrosión
Cromo-Aluminio	CrAl	25/75 30/70 40/60 50/50	> 99.7% (2N7)	> 99%	Dia100x40 / 95x32mm Dia63x40 / 65x32mm	Hot Isostático Presionando (HIP)	Buena resistencia a la oxidación y resistencia a la corrosión
Titanio-aluminio-silicio	TiAlSi	30/60/10 40/50/10	> 99.7% (2N7)	> 99%	Dia100x40 / 95x32mm Dia63x40 / 65x32mm	Hot Isostático Presionando (HIP)	Alta dureza y ductilidad
Cromo-aluminio-silicio	CrAlSi	30/60/10 40/50/10	> 99.7% (2N7)	> 99%	Dia100x40 / 95x32mm Dia63x40 / 65x32mm	Hot Isostático Presionando (HIP)	Buena resistencia a la oxidación y resistencia a la corrosión

Más información:

Certificación: ISO9001

Tamaño medio del grano: 30-40 μm (el estándar nacional es 100μm)

Otras especificaciones especiales están disponibles a petición del cliente.

 

Análisis de calidad del objetivo de pulverización CrAl

(Tome CrAl 30/70 en% como muestra)

Componente principal (% en peso)	Contenido de impurezas (%)
CrAl	do	norte	O	Fe	Si	S
> 99.7	0.01	0.006	0.17	0.02	0.07	0.002
	Cr	Alabama
	equilibrar	54.75

Dimensión: Dia 65x40 mm

Densidad real: 3.764 (g / cm ³ )

Densidad teórica:> 99%

El tamaño de grano promedio de nuestro objetivo de arco múltiple es 30-40 μm, que está muy por debajo del estándar nacional (100 μm).

Las ventajas de IKS:

● Variedad de materiales que incluyen: plata, titanio, aluminio, silicio, silicio-aluminio, titanio-aluminio-silicio, grafito, etc. para satisfacer sus necesidades.

● La utilización de material extremadamente alta (aproximadamente 80%) garantiza un menor consumo de materias primas y ahorra costos.

● Proporcione una película gruesa y densa con una superficie extremadamente lisa.

● Películas multicapa y películas de proceso múltiple son posibles

● Asegurar la alta eficiencia del proceso de recubrimiento y aumentar el rendimiento de la máquina de recubrimiento.

Solicitud:

● Tratamiento superficial de herramientas y moldes

● Vidrio arquitectónico y automático

● Hardware y decoración

● Pantalla plana

● Fotovoltaica solar

● Otros campos

Nuestros objetivos de arco catódico son la mejor opción para proporcionar superficies duras con excelente resistencia a la corrosión y resistencia al desgaste para cortar herramientas, punzonar y formar moldes para aumentar el tiempo de servicio, darles mayores velocidades de alimentación, rendimiento de corte y tasas de eliminación de metal fácilmente.

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