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  • IKS PVD Technology (Shenyang) Co., Ltd
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  • Correo electrónico: IKS.PVD@foxmail.com
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  • Representante de ventas mundial
  • KING TECH CORPORATION
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  • Objetivo de dispersión plana de alta calidad

    Objetivo de dispersión plana de alta calidad
    Introducción IKS proporciona objetivos de pulverización planar de alta calidad para una amplia gama de aplicaciones para óxidos complejos ferromagnéticos y películas semiconductoras. Nuestros objetivos se ofrecen en varios niveles de pureza para satisfacer sus requisitos específicos con la pureza mínima de 99.5% hasta 99.99% para ...
    Detalles:


    Introducción


    IKS proporciona objetivos de pulverización planar de alta calidad para una amplia gama de aplicaciones de óxidos complejos ferromagnéticos y semiconductores. Nuestros objetivos se ofrecen en varios niveles de pureza para satisfacer sus requisitos específicos con la pureza mínima de 99.5% hasta 99.99% para elementos puros y aleaciones.

    Adoptando tecnologías avanzadas de prensado isostático en caliente (HIP), sinterización al vacío y fusión al vacío, los objetivos planos de pulverización catódica de IKS se caracterizan por su alta pureza, alta densidad, composición homogénea, tamaño de grano fino y larga vida útil. Controlamos cada paso (desde las materias primas hasta los productos terminados) para asegurarnos de que solo se envíen los objetivos de alta calidad desde nuestras fábricas.

    IKS fabrica todas las formas y tamaños de objetivos planos de alta calidad. Háganos saber el material y las dimensiones que necesita y cumpliremos con su requisito especial.



    Productos principales:


    Material

    Símbolo

    Relación atómica

    Pureza

    Densidad relativa

    Dimensiones de Stock

    Tecnología

    Caracteristicas

    Cromo

    Cr

    _____

    99.5% ~ 99.95%

    > 99%

    750x125x10mm
    170x75x12mm

    Prensado isostático en caliente (HIP)

    Buena resistencia a la oxidación

    Tungsteno

    W

    _____

    99.9% ~ 99.95%

    > 99%

    750x125x10mm
    170x75x12mm

    Prensado isostático en caliente (HIP)

    Alta dureza

    Titanio

    Ti

    _____

    99.9% ~ 99.99%

    > 99%

    750x125x10mm
    170x75x12mm

    Vacío de fusión

    Buena resistencia al desgaste

    Níquel

    Ni

    _____

    99.9% ~ 99.99%

    > 99%

    750x125x10mm
    170x75x12mm

    Vacío de fusión

    Gran resistencia a la corrosión

    Molibdeno

    Mes

    _____

    99.9% ~ 99.99%

    > 99%

    750x125x10mm
    170x75x12mm

    Vacío de fusión

    Gran resistencia a la corrosión

    Silicio

    Si

    _____

    99.99%

    > 99%

    750x125x10mm
    170x75x12mm

    Sinterización al vacío

    Alta dureza

    Plata

    Ag

    _____

    99.9% ~ 99.99%

    > 99%

    750x125x10mm
    170x75x12mm

    Vacío de fusión

    Buena conductividad eléctrica y térmica

    Tántalo

    Ejército de reserva

    _____

    99.9% ~ 99.99%

    > 99%

    750x125x10mm
    170x75x12mm

    Vacío de fusión

    Alta ductilidad

    Cobre

    Cu

    _____

    99.9% ~ 99.99%

    > 99%

    750x125x10mm
    170x75x12mm

    Vacío de fusión

    Alta ductilidad, buena conductividad térmica y resistencia a la corrosión

    Grafito


    _____

    99.9% ~ 99.99%

    > 99%

    750x125x10mm
    170x75x12mm

    Sinterización al vacío

    Alta dureza

    Aluminio

    Alabama

    _____

    99.9% ~ 99.99%

    > 99%

    750x125x10mm
    170x75x12mm

    Vacío de fusión

    Buena Ductilidad, Conductividad Térmica y Resistencia a la Corrosión

    Silicio-aluminio

    SiAl

    25/75 30/70 40/60 50/50

    99.9% ~ 99.99%

    > 99%

    750x125x10mm
    170x75x12mm

    Prensado isostático en caliente (HIP)

    Alta ductilidad y buena resistencia al desgaste

    Titanio-Aluminio

    TiAl

    30/70 33/67 40/60 45/55 50/50 60/40 70/30 75/25 80/20

    > 99.7% (2N7)

    > 99%

    754x154x18mm
    331x174x22 mm

    Prensado isostático en caliente (HIP)

    Alta resistencia mecánica y buena resistencia a la corrosión

    Cromo-Aluminio

    CrAl

    25/75 30/70 40/60 50/50

    > 99.7% (2N7)

    > 99%

    754x154x18mm
    490x96x8 mm

    Prensado isostático en caliente (HIP)

    Buena resistencia a la oxidación y resistencia a la corrosión

    Titanio-aluminio-silicio

    TiAlSi

    30/60/10 40/50/10

    > 99.7% (2N7)

    > 99%

    754x154x18mm
    331x174x22 mm

    Prensado isostático en caliente (HIP)

    Alta dureza y ductilidad

    Cromo-aluminio-silicio

    CrAlSi

    30/60/10 40/50/10

    > 99.7% (2N7)

    > 99%

    754x154x18mm
    331x174x22 mm

    Prensado isostático en caliente (HIP)

    Buena resistencia a la oxidación y resistencia a la corrosión


    blob.png


    Más información:


    Certificación: ISO9001

    Tamaño medio del grano: 30-40 μm (el estándar nacional es 100μm)

    Forma: objetivos rectangulares, objetivo redondo

    Otras especificaciones especiales están disponibles a petición del cliente.


    blob.png



    Análisis de calidad de TiAl Sputtering Target

    (Tome TiAl 30/70 en% como muestra)


    Componente principal (% en peso)

    Contenido de impurezas (%)

    TiAl

    do

    norte

    O

    Fe

    Si

    S

    > 99.7

    0.01

    0.006

    0.2

    0.06

    0.02

    0.002

    Ti

    Alabama





    46.87%

    equilibrar






    Dimensión: 754x154x18mm

    Densidad real: 3,31 (g / cm3)

    Densidad teórica:> 99%


    El tamaño medio de grano de nuestro objetivo planar es 30-40 μm, que está muy por debajo del estándar nacional (100 μm).



    Las ventajas de IKS:


    ● Variedad de materiales que incluyen: plata, titanio, aluminio, silicio, silicio-aluminio, titanio-aluminio-silicio, grafito, etc. para satisfacer sus necesidades.

    ● Un tamaño de grano increíblemente pequeño y una microestructura uniforme aseguran un rendimiento constante del proceso hasta el final de la vida útil.

    ● La homogeneidad completa y los niveles de alta pureza de los blancos aseguran que el proceso de recubrimiento sea más estable y que las capas depositadas sean de mayor calidad.

    ● Excelente densidad que garantiza que el proceso de recubrimiento pueda beneficiarse de un nivel particularmente alto de conductividad

    ● Las maravillosas velocidades de pulverización debido a la alta densidad pueden ayudarlo a ahorrar más tiempo.





    Solicitud:


    En los últimos años, la pulverización catódica se ha aplicado ampliamente en la industria de semiconductores para la deposición de película delgada de diversos materiales en el procesamiento de circuitos integrados, vidrio arquitectónico y automotriz para la conservación de energía, revestimientos decorativos coloridos para hardware, revestimientos resistentes para herramientas y bienes de consumo y deposición de metales durante la fabricación de CD, etc.



    Función de recubrimientos que usan duros:


    Proporcione superficies duras con excelente resistencia a la corrosión y resistencia al desgaste para herramientas de corte, punzonado y moldeo para aumentar el tiempo de servicio; al mismo tiempo, se pueden lograr fácilmente mayores velocidades de alimentación, buen rendimiento de corte y excelentes tasas de eliminación de metales.

    Además, cuando se usa en motores de automóviles, puede reducir eficazmente el coeficiente de fricción de la superficie en componentes de precisión.



    Función de revestimientos decorativos:


    Asegure una buena resistencia a los arañazos y acabados decorativos de colores para revestimientos duros en teléfonos móviles, joyas, relojes, gafas, decoración automotriz, electrodomésticos, accesorios de baño y cocina, etc.



    Embalaje: 1. Caja de madera

    2. Cartón

    3. Como su petición


    Pago: T / T, L / C, etc.


    Tiempo de entrega: normalmente 20 ~ 30 días después del pago


    Envío: por aire o por mar


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